高純氨是（shì）電子工業中氮化膜（mó）的成膜氣體,已經在半導體,液晶麵板,氮化镓係LED生（shēng）產中（zhōng）得（dé）到廣（guǎng）泛應用;在多（duō）晶矽太陽能電（diàn）池領域的高純氨的應用也在不斷增加。針對NH3中的水份脫除工藝研究（jiū），對於氣態氨在脫水過程中出現的各種複雜問題解決，確保設備長期穩定運行，純（chún）氨含水量小於1PPm以（yǐ）下。 
關鍵詞：高純氨；脫水；問題解決; 穩定運行; 
氨氣在常溫常壓下為具有特殊刺激性（xìng）惡臭的無色有毒氣體，比空氣輕。氨（ān）在常溫下穩定，但是在高溫分解（jiě）成氫和氮。一（yī）般在一個大氣壓下450~500℃時容易（yì）分解成（chéng）氫氮混合氣。在空氣中可燃，但一般難以著火，如果連續接觸（chù）火源（yuán）就（jiù）燃燒，有時也能引起爆炸。氨呈堿性，具有（yǒu）強腐蝕性（xìng）。氨氣用途廣泛包括氮肥、銨鹽硝酸、尿素丙烯酰胺、氫氰酸、無機試劑（jì）、藥品、染料、金屬表麵氮化、製冷劑、半導體用（yòng）氣體、氧化、氮化膜、化學氣相澱積、標（biāo）準氣（qì）等。 
目前工業製（zhì）取液氨的方式主要是（shì）利用氫和（hé）氮在高溫（wēn）高壓時在催化劑的作（zuò）用下合成得到的。其粗氣中（zhōng）的組成雜質主要含有微量硫、水份、一氧化碳、氮氣、氧氣、鐵雜質及其它機械雜質和油等雜質。液氨中（zhōng）含有硫可通過（guò）脫硫裝置脫除（chú），含有的油份可通過（guò）活性碳吸附（fù），含有的機械雜質可通過精密過濾裝置過濾，氨中含有的雜質氣體可以通過萃取精餾工藝解決。氨中的水份在氨氣的雜質中占有的比重較大（dà），在實（shí）際應用解（jiě）決過程中遇到的問題也較（jiào）多，特（tè）別是氨（ān）氣最終的脫水深（shēn）度及（jí）脫水過程中產品氣（qì）露（lù）點穩定性是整個工藝脫水過程中克服的難點。隨著電子（zǐ）工業的發展，對NH3純度要求及（jí）雜質含量要求極高。鑒於高純氨氣良好的（de）應用前景，進一步開展NH3純度的技術研究，提高產品氣的純度是十分必要的。