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快速退火爐設備說明
發布時間：
2023/10/30 20:08
快速退火爐（lú）采用鹵素紅外線燈作為熱（rè）源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C，從而（ér）晶（jīng）圓或材（cái）料的（de）部分缺陷，提（tí）高產品性能。快（kuài）速退火爐采用先進的微電腦控製係統和PID閉環控溫，可達到較高的控溫精度和溫度（dù）均勻性（xìng），並可根據用戶工藝要求配備真空室或多路氣體。快速退火爐（lú）主要由真空室、加熱室、進氣係統、真空係統、溫控係統、風冷係統、水冷係統等組成。真（zhēn）空室：真空室是快速退火爐的空（kōng）間，晶片在此進（jìn）行快速熱（rè）處理（lǐ）。加（jiā）熱室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以耐高溫合金為框架，以高純為（wéi）主體。進氣（qì）係統：真空室（shì）末端有進氣孔，采用精確控製的進（jìn）氣（qì）口，以滿足某些特殊工藝的用氣要求。真空係統：真空泵（bèng）與真空（kōng）腔之間裝（zhuāng）有高真空（kōng）電磁閥，可有效保證腔體的真空度，同時防止氣體回流汙染腔體內已加（jiā）工的工件。溫控係統：溫控係（xì）統由溫度傳感器、溫度控（kòng）製器、電源調節器、可編程控製器、PC機及各種傳感器組成。風冷係統（tǒng）：真（zhēn）空室的冷卻是通過進風係統向腔內充入惰性氣體，以加速熱處理工件的冷卻，達到工藝要求。水冷係統：水冷係統主（zhǔ）要包括真空室、加熱室、各部件密（mì）封圈的冷卻水。以（yǐ）上就是武漢嘉儀通科技有限（xiàn）公司（sī）小編收（shōu）集的內容，如有需要請與我們聯係。公司集快速退火爐、熱電性能測試、芯片晶圓熱處理、鍵合爐、熱氮化、薄膜熱導率、退火爐、去應力退火、金屬合金化、薄膜熱處理、熱（rè）氧化、係數的研發、市場和技術服務於一體。公司專注於薄膜材料（liào）物（wù）理性能測量儀器的自主研發，致力於為客（kè）戶提供（gòng）薄膜材料的高低溫環境（jìng）試驗、熱、電等性能測試分析的整體（tǐ）解決方案。公司始終堅持自主研發與應用創（chuàng）新，擁有自己的技術工程師研發團隊，建有省級工程實驗室、新型研發機構以及市級企業技術中心平台，擁（yōng）有（yǒu）知識產權 ，主持承擔參與了 10 餘項科技攻關項目。
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