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快速退火爐（lú）設備說明
發布時間：
2023/09/18 20:12
快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通（tōng）過較快的（de）升溫速度將晶圓（yuán）或材料快速加熱至（zhì）300°C-1200°C，從而晶圓或材料的部分缺陷，提高產品性能。快速退火爐（lú）采用先（xiān）進（jìn）的微電腦控製係統和PID閉環控溫，可達到較高的控溫精度和（hé）溫度均勻性，並可根據用戶工藝要求配（pèi）備真空室或多路（lù）氣體。快速退火爐主要由真空室、加（jiā）熱室、進氣係統、真空係統、溫（wēn）控係統、風冷係統（tǒng）、水冷係統等（děng）組成（chéng）。真空室：真空室是快速（sù）退火爐的空間，晶片在此進行快速熱處理。加熱室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以耐高溫合金為框架，以高純為（wéi）主體。進（jìn）氣係統（tǒng）：真（zhēn）空（kōng）室末端有進氣孔，采用精確控製的進氣口，以滿足某些特殊工藝的用氣要求。真（zhēn）空係統：真空泵與真空腔之間裝有高真空電磁閥（fá），可有效保證（zhèng）腔體的真空度，同時防止氣體回流汙染腔體內（nèi）已（yǐ）加工的工件。溫控係統：溫控係統由溫度傳感器、溫度控製器、電源調節器（qì）、可編程控製器、PC機及各種傳（chuán）感器組成。風（fēng）冷係統：真空（kōng）室的冷卻是通過進風係統向腔內充入惰性氣體，以加速熱處理工件的冷卻，達到工藝要（yào）求（qiú）。水冷係（xì）統：水冷係統主要包括真空室、加熱室、各部件密封圈的冷（lěng）卻水（shuǐ）。以上就（jiù）是武漢嘉儀通科技有限公司小（xiǎo）編（biān）收集的內容，如（rú）有需要請與我（wǒ）們聯係。公司集快速退火爐、熱電性（xìng）能測試、芯片晶圓熱處理、鍵（jiàn）合爐、熱氮化、薄膜熱（rè）導率、退（tuì）火（huǒ）爐、去應（yīng）力退火、金屬合金化、薄（báo）膜熱處理、熱氧化、係數的研（yán）發、市場和（hé）技術服（fú）務於一體。公司專注於薄膜（mó）材料（liào）物理性能測（cè）量（liàng）儀器的自主研發（fā），致力於為客戶提供薄膜材料的高（gāo）低溫（wēn）環境試驗、熱、電等性能測試分析的整（zhěng）體解決方案。公司始終堅持（chí）自主研發與應用創新（xīn），擁（yōng）有自己（jǐ）的技術工程師研發團隊（duì），建有省級工程（chéng）實驗室、新型研發機構以及市級企業技（jì）術（shù）中心平（píng）台，擁有知（zhī）識產權 ，主持承擔參（cān）與了 10 餘項科技攻關項目（mù）。
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