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快速退火爐設備說明
發布時間（jiān）：
2023/10/09 20:17
快速退（tuì）火爐采用鹵素（sù）紅外線燈作為（wéi）熱（rè）源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料（liào）快速加熱至300°C-1200°C，從而晶圓或材料（liào）的部分缺陷，提高產品性能。快速退火爐采用先進的微（wēi）電腦控製係（xì）統和（hé）PID閉環控溫，可達到較高的控溫精度和溫度均勻性，並可根據用戶（hù）工藝要求配備真空室或多路氣體（tǐ）。快速（sù）退火爐主要由真空室、加熱室（shì）、進氣係統、真空係統、溫控係統、風冷係統、水冷係統等組（zǔ）成。真空室：真空室是快速退火爐的空（kōng）間，晶片在此進行快速熱處理。加熱室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以耐高溫合金為框架（jià），以高純為主體（tǐ）。進（jìn）氣係統：真空室末端有進氣（qì）孔，采用精確控製的進氣口，以（yǐ）滿足某些特殊（shū）工藝的用氣要求。真空係（xì）統：真空泵與真空腔之間裝有高真空電磁閥，可有效保證腔體的真空度，同時防止氣體回流汙染腔體內已加工（gōng）的工件。溫控係統：溫控係統由溫度（dù）傳感器、溫度控製器、電源調節器、可編程控製器、PC機及（jí）各（gè）種傳感器（qì）組成。風冷係統：真空室的冷卻是通過進風係統向腔內充入惰性氣體，以加速熱處理工件的冷（lěng）卻（què），達到工藝要求。水（shuǐ）冷係統：水冷係統主要包括真空室、加熱室、各部件密封（fēng）圈的冷卻水。以上（shàng）就是武漢嘉儀通科技（jì）有限公司小（xiǎo）編收集的內容，如（rú）有需要請與我們（men）聯係。公司集快速退火爐、熱（rè）電性能測試、芯片晶圓熱處理（lǐ）、鍵合爐（lú）、熱氮化、薄膜熱（rè）導率（lǜ）、退火爐、去應力退火、金屬合金化、薄膜熱處理、熱（rè）氧（yǎng）化（huà）、係數的研發、市場和技（jì）術服（fú）務於一體。公司專注於薄（báo）膜材料（liào）物理性能測量儀器（qì）的自主研發，致力（lì）於為客戶提供薄（báo）膜材料的高低溫（wēn）環境試驗、熱、電等性能測試分析的整（zhěng）體解決方案。公司始終堅持自主研發與應用創新（xīn），擁有（yǒu）自己的技術工程師研發（fā）團（tuán）隊，建有省（shěng）級工程實驗室、新型（xíng）研發機構以及市級企業技術中心平（píng）台，擁（yōng）有知識（shí）產權 ，主持承擔參與（yǔ）了 10 餘項科技攻關項目。
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