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快速退火爐設備說明
發布時間：
2023/10/16 20:12
快（kuài）速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓（yuán）或材料快速加熱至300°C-1200°C，從而（ér）晶圓或材（cái）料的部分缺陷，提（tí）高產品性能。快速退火爐采用先進的微電腦（nǎo）控製係統（tǒng）和PID閉環控溫，可達到較高的控溫精度和溫度均（jun1）勻性，並可根據用戶工藝要求配備真空室或多（duō）路氣（qì）體。快速退（tuì）火爐主要由真空室（shì）、加熱室、進氣係統、真空係統、溫控係統、風冷係統、水冷係統等（děng）組成。真空室（shì）：真空室是（shì）快速退火爐的空間，晶片在此（cǐ）進（jìn）行快速（sù）熱（rè）處（chù）理。加熱（rè）室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以（yǐ）耐高溫合金（jīn）為框架，以高純為主體。進氣係（xì）統：真空室末端有進氣孔，采（cǎi）用（yòng）精確控製的進氣口，以滿足（zú）某些（xiē）特殊工藝的用氣要求。真空係統：真空泵與真空（kōng）腔（qiāng）之間裝有高真空電磁（cí）閥，可有效保證腔體的真空度，同時防止氣體回（huí）流汙（wū）染腔體內已加工的工件。溫控係統：溫控係統由溫度傳感器、溫度控（kòng）製器、電源調節器、可編程控製器、PC機及各（gè）種傳感器組成。風冷係統：真空室的冷卻是通過進風係統向腔內充入惰性氣體，以加速熱處理工件的冷卻（què），達到工藝要求。水冷係統：水冷係統主要包括真空室、加熱室、各部件密封圈的冷卻水。以上就是武漢嘉儀通（tōng）科技（jì）有限公司小編收集的內容，如有需要請與我們聯係。公司集快速退火爐、熱電性能測試、芯（xīn）片晶圓熱（rè）處理（lǐ）、鍵合爐、熱氮化（huà）、薄膜熱（rè）導率、退火爐（lú）、去應力退火、金屬合金化、薄膜熱處理、熱氧化、係數（shù）的研發、市場和技術服務於一（yī）體。公司專注於薄膜材（cái）料物理性能測量儀器的自主研發，致力（lì）於為客戶提供薄膜材料的高低溫環境試驗、熱、電等性（xìng）能測試分析的整（zhěng）體解決方案。公司始終（zhōng）堅（jiān）持自（zì）主研發與應用創新，擁（yōng）有自己的技術工程師研發團隊，建有省級工程實驗室（shì）、新型（xíng）研發機構以及市級企（qǐ）業技術中心平台，擁有知識產權 ，主持承擔（dān）參（cān）與了 10 餘項科技攻關項目。
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